深圳单片机开发方案公司英锐恩为你带来芯资讯—中国单片机芯片产业设备绕过了相关知识产权壁垒，国内首台超分辨力最高紫外超分辨光刻装备诞生了。中科院光电所研发出这一台突破传统的光刻机，对单片机芯片产业来说是一次尝试性的迈进。
此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成了一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权，为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具。光刻分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。
光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过了国外相关知识产权壁垒。
光刻机是制造芯片的核心装备，采用类似照片冲印的技术，把一张巨大的电路设计图缩印到小小的芯片上，光刻精度越高，芯片体积可以越小，性能也可以越高。但由于光波的衍射效应，光刻精度终将面临极限。
单片机芯片产业的生产过程中是需要不断提高光刻精度的，这是全球的技术升级问题。深圳单片机开发方案公司英锐恩为中国取得这一突破万分激动，同时也激励着英锐恩不断突破前进，做有价值的芯方案解决商。
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